SJT 31121-1994 JB－VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
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ID： |
9B325B1F5A2D4CA097F19CAAB0A6238F |
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文件大小(MB)： |
0.32 |
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页数： |
3 |
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日期： |
2024-7-28 |
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中华人民共和国电子行业标准,JBー训型掩模对准曝光机,完好要求和检查评定方法,SJ/T 31121-94,1主题内容与适用范围,本标准规定了 JB-V !型掩模对准曝光机的完好要求和检査、评定方法,本标准只适用于JB—V 1型掩模对准曝光机和JB-IV型、JB—VI型、JB- H型掩模对,准曝光机,2引用标准,GB 11481-89《掩模对准曝光机通用技术条件》,3术语,3.1 曝光分辨率,在集成电路和其它半导体器件制造中,曝光分辨率是指在一定环境条件和工艺条件下,基,片曝光、显影后,获得的细小图形的清晰度,通常用曝光后所获得的最细图形线宽度表示,3.2 对准精度,在基片与掩模对准完成后,对准标记中心线之间允许的最大误差称为对准精度。以掩模版,的基片上标记中心线的最终相对位置的偏差量作为判据,4完好要求,4.1 主要技术指标,4.1.1 有效曝光面积内光强均匀性优于士 10% .,4.1.2 恒光强装置的光强波动值不大于±5%,41.3对准精度优于曝光分辨率,或优于士 0.6〃m,4.1-4曝光分辨率达到或优于2. 0fmi,或满足エ艺要求,4.1 -5扫描部件移动时,垂直方向跳动量大于1曲m,4.2 操作系统,4. 2-1各操作手柄、开关、按钮、启动灵活,定位可靠,4.2.2曝光系统动作灵活可靠,与显微镜升降,快门启闭,动作协调,准确到位,4. 2- 3微动台X、Y、Z移动,6转角达到使用要求;移动和转动时,全程手感平滑,4-2.4承片台载片牢靠,吸片、送片没有误动作,满足工作要求,4.3润滑系统,中华人民共和国电子工业部1994-04-15批准 1994-06-01实施,- 1 -,SJ/T 31121-94,4.3-1机械泵涧滑良好,油路通畅,油面在规定刻线,4.3- 2曝光系统运动导轨润滑良好,4-4气压系统,4.4.1 有压缩空气控制的机构(如三支点找平,误差补偿头的气缸锁紧,显微镜升降等)减压,阀等调整收灵活可第,压カ范围满畑工作要求,4.4.2 真空吸片,真空吸版,真空复印时,负压应满足工作要求,4-5电气系统;,4.5-1汞灯电路启动迅速,电磁阀控制的快门打开无漏光和卡死现象;,4-5.2高压汞灯输出率稳定,电流或光强在，定范围可调,4. 5. 3各电气部分无漏电现象,满足工作要求,4-6光路系统,4.6.1显微镜的分辨率优于对准标记要求的分辨率,双目分离视场显微镜的两物镜及两目镜的中心距在一定范围内能连续可调.,4- 6. 2有效曝光光束直径应大于等于基片尺寸加X、Y方向调节范围,4.7附件:,4-7-1机械泵,空压机、冷却氮气装置保管良好,无锈蚀与损伤;,4.7 -2机械泵,完好要求参照SJ/T 31121— 94执行;空压机运行稳定,4.8 安全保护,4.8.1 整机接地良好,保护装置齐全、有效,4.9 维护保养,4 - 9-1汞灯照度降低后,及时更换新灯以满足照度要求,4 .9.2定期清洁设备,更换机械泵油,4. 9. 3环境条件保持在温度20.25C ,湿度35.70%,百级或千级净化,环境振动幅度小于,4. 9. 4其它按ST/T 31002—94《设备维护保养通则》中第三章执行,5检查、评定方法,5.1 检查方法,5.1.1 光强均匀性的检査方法:用精度不低于0. 33mW/cm2的紫外线照度计检查有效曝光,面积内的五点光强(中心一点,周围均布4点)。光强均匀性按下式计算光强均匀性び:,U = 士 3皿-%.)/(Em + ￡mm)X 100% .. (1),式中,。——一光强均匀性,％;,兄皿——最大光强值,mW/cm?；,——最小光强值.mW/cm、,如此三次,取平均值,2 ~,sj/t 31121-94,5.1.2 恒光强波动度检查方法:用同5. H照度计检査4h内的光强变化值,按下式计算光强,波动度ハ:,D = (￡max - ￡mi?/?X 100% ..(2),式中:EmgEmm 最大和最小光强值,Hl W/cm?；,E-----4小时内平均光强,mW/cm?；,5.エ3对 准精度的检查方法:将涂好胶的基片用有特定标志的版进行精确对准,然后曝光,显,影.腐蚀,再次涂胶,完成精确对准,曝光,显影,用线宽测量仪测岀特定标志X、Y向偏离值,如,此6次,取其均值,5.1.4 曝光分辨率的检查方法:将基片涂胶,在规定的工艺条件下,曝卷显影,观测刻线宽度,按ド式计算线宽变化率,8 =(んー幻/ん X 100% .. (3),式中:h0——掩模版的标称线宽屮m；,ム——基片线宽极值小m；,其值小于10%的最细线宽为曝光分辨率,5.1- 5垂直跳动误差的检査方法:将带支架的千分表固定在扫描部件上,扫描部件移动时.,测,其Z向跳动量,5.1.6对各系统完好要求,在设备现场,采用主观法检査,5.2评 定方法：,5- 2- 1 主要项目有:4. 1.1,4.1. 3,4. 1- 4；4. 2.2,4. 2. 3;其余为次要项目,5.2-2主要项目有一项不符合要求,为不完好设备;次要项目有两项不符合要求,亦为不完好,设备,5.2-3完好设备的维护保养,应达到优等设备标准,附加说明;,本标准由电子工业部经济运行与体制改司提出,本标准由电子工业部第13所组织起草,本标准主要起草人:薛中堂,3……
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